Dresden 2006 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

DS: Dünne Schichten

DS 24: Poster presentation

DS 24.60: Poster

Dienstag, 28. März 2006, 15:00–17:30, P2

Reaktives Plasmajet-Ätzen - Wechselwirkungen mit Si-Oberflächen — •Thomas Arnold und Axel Schindler — IOM e.V., Permoserstr. 15, 04318 Leipzig

Lokale Trockenätzverfahren auf der Basis reaktiver Plasmajets stellen eine vielversprechende Technologie für die Bearbeitung und Formgebung von Oberflächen aus siliziumhaltigen Materialien dar.

Die Untersuchungen zum plasmachemischen Hochrateätzen mit einem nichtthermischen Ar/SF₆/O₂-Plasmajet mit Mikrowellenanregung konzentrieren sich auf die lokale Verteilung von Teilchenflüsse der ätzaktiven Spezies (Fluoratome) sowie auf die komplexe SF₆-Chemie im Plasmajet. Desweiteren werden die aus der Plasmachemie folgenden Effekte im Wechselwirkungsbereich zwischen Si-Substratoberfläche und Plasmajet untersucht. Die Reaultate zeigen, dass trotz der komplizierten Abhängigkeit der Teilchenflüsse von den Prozessparametern reproduzierbare Ätzergebnisse möglich sind.