Dresden 2006 – wissenschaftliches Programm

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HL: Halbleiterphysik

HL 9: Poster I

HL 9.1: Poster

Montag, 27. März 2006, 15:15–17:45, P3

Systematische Untersuchung zum Strahlprofil von fokussierten Ionenstrahlen — •andre uhlemann, Alexander Melnikov, Rolf Wernhardt, and Andreas Wieck — Angewandte Festkörperphysik Ruhr-Universität Bochum, Universitätstr.150,44801 Bochum

Systematische Untersuchung zum Strahlprofil von fokussierten Ionenstrahlen Andre Uhlemann, Alexander Melnikov, Rolf Wernhardt und A.D.Wieck Lehrstuhl für angewandte Festkörperphysik, Ruhr-Universität Bochum,Universitätsstr.150, Bochum 44780 Techniken zur Anwendung fokussierter Ionenstrahlen (FIB) finden an vielen Stellen Einzug in die Nanotechnologie. Die Verbesserung der Funktionalität vieler Anwendungen macht eine systematische Untersuchung von Strahlprofilen und deren unerwünschte Seitendosis erforderlich. Mit Hilfe von Ionenstrahllithographie und durch das Sputtern dünner Goldfilme wird das Strahlprofil eines Zwei-Linsen- FIB Systems untersucht .Im Vordergrund dieser Untersuchung steht die Einflussnahme von Abbildungsparametern wie z.B Blenden, Strahlstrom, Stigmatoren und Strahlengang auf das Strahlprofil. Es wird darüber hinaus die Frage diskutiert , unter welchen Konditionen eine Strahlaufweitung aufgrund des statistischen Coulomb-Effekts vorliegt, und in wie weit eine Holtsmarkverteilung das Strahlprofil besser als eine einfache Gaussverteilung beschreiben kann.