Frankfurt 2006 – scientific programme
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Q: Quantenoptik und Photonik
Q 33: Poster Nichtlineare Optik und Atomoptik
Q 33.4: Poster
Tuesday, March 14, 2006, 16:30–18:30, Labsaal
Hochauflösende Atomlithographie durch Selbstfokussierung — •Johannes Nold, Robert Löw, Jürgen Stuhler und Tilman Pfau — 5. Physikalisches Institut, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 57, D-70569 Stuttgart
Die fortschreitende Miniaturisierung erfordert die Erzeugung immer kleinerer Strukturen. In der Atomlithographie wird dazu ein thermischer Atomstrahl durch die Wechselwirkung mit einem optischen Gitter periodisch strukturiert auf ein Substrat fokussiert und dort abgeschieden [1]. Durch Einsatz gepulster Gitter kann die Strukturbreite theoretisch weiter reduziert werden [2,3]. Wir untersuchen inwieweit es die Verwendung von kohärenten Atomquellen hoher Dichte erlaubt die Atom-Atom Wechselwirkung zur weiteren Steigerung der Auflösung auszunutzen. Hierzu behandeln wir numerisch die zeitabhängige Gross-Pitaevskii Gleichung mit zeitlich veränderlicher s-Wellen-Streulänge für ein Bose-Einstein-Kondensat aus 52Cr in einem statischen optischen Gitter. Die s-Wellen-Streulänge ist dabei mit Hilfe einer Feshbach-Resonanz einstellbar [4]. Durch Steuerung der Streulänge sind wir theoretisch in der Lage deutlich schmälere Strukturen bei starker Unterdrückung des Hintergrunds zu erreichen.
[1] M.Oberthaler, T. Pfau, J. Phys.: Condens. Matter 15, R233 (2003)
[2] R. Arun, I. S. Averbukh, T. Pfau, Phys. Rev. A 72, 023417 (2005)
[3] M. Leibscher, I. S. Averbukh, Phys. Rev. A 65, 053816 (2002)
[4] J. Werner et al., Phys. Rev. Lett. 94, 183201 (2005)