Düsseldorf 2007 – scientific programme
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P: Fachverband Plasmaphysik
P 15: Staubige Plasmen
P 15.5: Talk
Wednesday, March 21, 2007, 15:35–15:50, 6F
Untersuchungen zum Staub- und Schichtwachstum in Ar / N2:C2H2 Plasmen mit Hilfe der (Rayleigh-Mie-Streu-) Ellipsometrie — •Raphaela Weiß1, Suk-Ho Hong2, Jens Ränsch1 und Jörg Winter1 — 1Ruhr-Universität Bochum, EP II, 44780 Bochum, Germany — 2Association EURATOM-CEA sur la Fusion Contrôlée, DRFC/SIPP/GIPP, CEA/Cadarache, 13108 Saint Paul-lez-Durance, France
Zur in situ Bestimmung der Eigenschaften funktioneller Nanopartikel wurde die Rayleigh-Mie-Ellipsometrie verwendet. Die Partikel wurden in einer CCP-Entladung, welche mit einer Gasmischung aus Argon bzw. Stickstoff und Acetylen betrieben wurde, synthetisiert. Während des Staubwachstumsprozesses wurden die Nanopartikel von einem Argon-Ionenlaser beleuchtet und die Polarisationsänderung unter 90∘ von einem Photomultiplier detektiert. Mit Hilfe der Mie-Theorie lassen sich Aussagen über die Änderung des Partikelradius’ und über die optischen Konstanten n und k der Staubteilchen treffen.
Wir präsentieren und diskutieren Ergebnisse dieser Rayleigh-Mie-Ellipsometrie-Messungen an Plasmen mit unterschiedlichen Entladungsparametern wie die eingekoppelte Leistung oder die Gaszusammensetzung. Diese Ergebnisse werden mit den Eigenschaften von dünnen polymerartigen Schichten verglichen, die aus den gleichen Plasmen abgeschieden wurden.
Diese Arbeit wird gefördert vom Graduiertenkolleg 1051 und dem SFB 591.