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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen

SYOH 1: Design, Herstellung und Kontrolle

SYOH 1.3: Hauptvortrag

Mittwoch, 21. März 2007, 12:10–12:40, 6A

Herausforderungen an Design, Beschichtungs- und Meßtechnik bei der Umsetzung aktueller Anforderungen an die Dünnschichtoptik am Beispiel der Fluoreszenzmikroskopie — •Uwe Schallenberg — Carl-Zeiss-Promenade 10, 07745 Jena

Die modernen Verfahren der Fluoreszenzmikroskopie basieren zwar auf der klassischen Fluoreszenzanordnung mit Anregungsquelle, Umlenkspiegel und Sperrfilter, ermöglichen jedoch auf Grund der Anregung mit einzelnen Laserwellenlängen ungeahnte Qualität und Möglichkeiten in der Bildauswertung. Wesentliche Bestandteile dieser neuartigen Fluoreszenzmikroskope sind Dünnschichtfilter, deren Schichtsysteme zur Realisierung der spektralen Anforderungen bis zu 200 Einzelschichten mit absoluter Stabilität und extremer Genauigkeit erfordern. Am Beispiel typischer Interferenzfilter wie Steilkantenfilter und Farbteiler werden diese Herausforderungen an Design, Beschichtungs- und Meßtechnik in einem Überblick erläutert. Wesentliche Technolgiekomponenten wie die Needle-Optimierung bei der Designsoftware, die Ionenstützung als Bestandteil der Aufdampftechnik und das optische Breitbandmonitoring bei der Meßtechnik werden vorgestellt und ihre Bedeutung für die Umsetzung aktueller Anforderungen an die Dünnschichtoptik insbesondere bei der Serienfertigung herausgestellt.