Düsseldorf 2007 – wissenschaftliches Programm

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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen

SYOH 4: Optiken im DUV/EUV-Spektralbereich

SYOH 4.1: Hauptvortrag

Donnerstag, 22. März 2007, 11:30–12:00, 6A

Optische Hochleistungsschichten für die Lithografieoptik — •Christoph Zaczek — Carl Zeiss SMT AG, Oberkochen, Germany

Die optische Lithografie ist die Schlüsseltechnologie bei der Herstellung von Chips in der Halbleiterindustrie. Mit der neuesten Generation der 193nm-Immersionslithografie werden in der Produktion in Bälde Strukturgrößen von <= 40nm auf Chips erreicht. Solche Hochleistungslithografieoptiken stellen besondere Anforderungen an die optischen Schichten dar. Im ersten Schritt sind hierbei grundlegende Kenntnisse über den Einfluss von Umgebung, Linsenmaterial, Beschichtungsprozess und -geometrie auf die Schichtstruktur und damit auf die optischen Eigenschaften der Schichten erforderlich. Diese erlauben es dann im zweiten Schritt den Beschichtungsprozess in geeigneter Weise zu steuern, um die geforderten optischen Spezifikationen zu erfüllen. Erst die Kombination von Grundlagenwissen und Prozessbeherrschung machen aus optischen Schichten Hochleistungsschichten für die Lithografieoptik.