Düsseldorf 2007 – wissenschaftliches Programm

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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen

SYOH 4: Optiken im DUV/EUV-Spektralbereich

SYOH 4.2: Hauptvortrag

Donnerstag, 22. März 2007, 12:00–12:30, 6A

XUV Multilayer Optiken — •Torsten Feigl, Sergiy Yulin, Nicolas Benoit, Uwe Detlef Zeitner, Thomas Peschel, Christoph Damm, Norbert Kaiser und Andreas Tünnermann — Fraunhofer IOF, Albert-Einstein-Str. 7, 07745 Jena, Germany

Der Anspruch zur Erhöhung der Auflösung optischer Systeme sowie der Bedarf nach Strukturierung und Visualisierung immer kleinerer Details der uns umgebenden Welt hat die Optikentwicklung in den letzten Jahren nachhaltig beeinflusst. So ist das globale Interesse an Optikkomponenten für extrem ultraviolette Strahlung sowie den weichen Röntgenbereich sprunghaft angestiegen.

Da die absorptionsbedingte Eindringtiefe von XUV-Strahlung in Materie nur wenige hundert Nanometer beträgt, erfolgt die Strahlformung in diesem Wellenlängenbereich mit Hilfe reflektiver Optiken. Verwendung finden vor allem aus alternierenden Schichtmaterialien unterschiedlicher Brechzahlen bestehende XUV-Multilayerspiegel.

Neben der Entwicklung hochreflektierender und thermisch sowie strahlungsstabiler Schichtsysteme wurden am Fraunhofer IOF Jena Kollektor- und Abbildungsoptiken für verschiedene Anwendungen realisiert. Es werden aktuelle Herausforderungen der EUV Lithographie bei 13,5nm sowie ausgewählte Ergebnisse laufender F&E-Aktivitäten im weichen Röntgenbereich zur Diskussion gestellt.