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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen

SYOH 4: Optiken im DUV/EUV-Spektralbereich

Donnerstag, 22. März 2007, 11:30–12:30, 6A

	11:30	SYOH 4.1	Hauptvortrag: Optische Hochleistungsschichten für die Lithografieoptik — •Christoph Zaczek
	12:00	SYOH 4.2	Hauptvortrag: XUV Multilayer Optiken — •Torsten Feigl, Sergiy Yulin, Nicolas Benoit, Uwe Detlef Zeitner, Thomas Peschel, Christoph Damm, Norbert Kaiser und Andreas Tünnermann