Düsseldorf 2007 – wissenschaftliches Programm

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SYOH: Symposium Optische Hochleistungsbeschichtungen für den Einsatz in Lasersystemen und anderen Anwendungen

SYOH 5: Optiken im DUV/EUV-Spektralbereich (Fortsetzung)

SYOH 5.2: Hauptvortrag

Donnerstag, 22. März 2007, 14:30–15:00, 6A

Charakterisierung der Verlustmechanismen und der Strahlungsstabilität UV-optischer Materialien — •Klaus Mann — Laser-Laboratorium Göttingen e.V.

Um die Effizienz von UV-Optiken insbesondere für den Einsatz in der Halbleiter-Lithographie zu erhöhen, werden am Laser-Laboratorium Göttingen umfassende Untersuchungen zu den Verlusten und Übertragungseigenschaften an Quarz und CaF2-Optiken bei Belastung mit intensiver gepulster UV-Strahlung durchgeführt. Absolute Absorptionskoeffizienten bei 193nm werden mit Hilfe eines hochauflösenden Laser-Kalorimeters bestimmt. Das Messsystem gestattet gleichzeitig eine Erfassung linearer und nicht-linearer Absorptionsverluste sowie die schnelle Bewertung des Degradationsverhaltens durch strahlungsinduzierte Farbzentrenbildung. Für die Bestimmung der Qualität von DUV-Optiken wurde außerdem ein extrem empfindlicher Hartmann-Shack-Wellenfrontsensor aufgebaut. Damit lässt sich zum Beispiel die Wellenfrontvezerrung durch den Effekt der thermischen Linse an Excimerlaser-bestrahlten Optiken mit einer Genauigkeit im Sub-Nanometerbereich vermessen. Um die Arbeiten zur Optik-Charakterisierung auch in den EUV-Spektralbereich (13nm) ausdehnen zu können, wurde eine kompakte EUV-Strahlungsquelle auf der Basis eines lasergenerierten Plasmas entwickelt. Es werden Testmessungen an unterschiedlichen EUV-Optiken vorgestellt.