Regensburg 2007 – wissenschaftliches Programm

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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 15: Poster Session

DS 15.59: Poster

Dienstag, 27. März 2007, 15:00–17:00, Poster B

Deposition von TiN_x-Schichten durch reaktives Sputtern in einer DC-Magnetronentladung — •Stefan Wrehde¹, Marion Quaas², Robert Bogdanowicz³, Hartmut Steffen⁴, Harm Wulff² und Rainer Hippler¹ — ¹Institut für Physik, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Felix-Hausdorff-Straße 6, 17489 Greifswald — ²Institut für Chemie und Biochemie, Ernst-Moritz-Arndt-Universität Greifswald, Felix-Hausdorff-Straße 4, 17489 Greifswald — ³Department of Optoelectronics and Electronical Systems, Gdansk University of Technlogy, ul. G. Narutowicza 11/12, 80-952 Gdansk, Polen — ⁴Institut für Niedertemperatur-Plasmaphysik, Felix-Hausdorff-Straße 2, 17489 Greifswald

In einem reaktiven DC-Magnetron-Plasma (Arbeitsgas Argon, Reaktivgas Stickstoff) wurden unter verschiedenen Bedingungen TiN_x-Schichten abgeschieden. Reaktivgasfluss, Entladungsleistung und Betriebsmodus des Magnetrons (balanced bzw. unbalanced) wurden variiert. Die chemische Zusammensetzung und die Struktur der abgeschiedenen Schichten wurden mit Hilfe verschiedener Röntgenanalyseverfahren (XPS, GIXR, GIXD) untersucht. Hierbei wurde fest gestellt, dass vor allem der Betriebsmodus des Magnetrons wesentlichen Einfluss auf die Depositionsrate und den Stickstoffeinbau in die Schichten hat. Durch weitere Analyse mittels spektroskopischer Ellipsometrie (SE) und Fitten der hieraus erhaltenen Daten (optisches Modell mit Bruggemann-Näherung und Lorentzoszillator) konnten die Resultate der Röntgenverfahren bestätigt und um Informationen über die optischen Eigenschaften der Schichten erweitert werden.