Berlin 2008 – wissenschaftliches Programm

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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 17: Poster: Trends in Ion Beam Technology, Magnetism in Thin Films, Functional Oxides, High-k Dielectric Materials, Semiconductor Nanophotonics, Nanoengineered Thin Films, Layer Deposition Processes, Layer Growth, Layer Properties, Thin Film Characterisation, Metal and Amorphous Layers, Application of Thin Films

DS 17.27: Poster

Dienstag, 26. Februar 2008, 09:30–13:30, Poster A

Eigenschaften von Sol-Gel-Aluminiumoxidschichten mit inkorporierten Wolframdisulfid-Nanopartikeln — •Hilke Hattermann, Michael Griepentrog, Marko Szuggars und Thomas Hübert — Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM), Berlin, Deutschland

Dünne Schichten aus Aluminiumoxid finden bereits seit geraumer Zeit als Verschleißschutzschichten Verwendung, beispielsweise auf Werkzeugen. Durch die Inkorporation von Schmierstoff-Nanopartikeln wie Wolframdisulfid in Form von anorganischen Fullerenen in die Aluminiumoxidschicht wird nun zusätzlich eine Verbesserung des tribologischen Verhaltens erwartet, insbesondere eine Reduktion der Reibung. Das Einbringen der Nanopartikel und die Schichtherstellung erfolgen mit Hilfe eines Sol-Gel-Verfahrens. Die mechanischen Eigenschaften der resultierenden Nanokompositschicht wie Härte und E-Modul, die mit Nanoindentation gemessen werden können, sowie Haftfestigkeit und Rauheit sollten dabei gegenüber einer undotierten Schicht möglichst wenig verändert sein.

Diese Untersuchung findet im Rahmen des EU-Projektes FOREMOST statt.