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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 10: Poster

K 10.7: Poster

Dienstag, 11. März 2008, 08:30–12:30, Poster C3

Elektronenstrahlangeregte VUV/XUV-Lichtquellen - Parameter, Technologie und Anwendungen — •Jochen Wieser¹, Andreas Görtler¹, Thomas Heindl², Reiner Krücken², Andrei Morozov², Christoph Skrobol² und Andreas Ulrich² — ¹Coherent GmbH, Zielstattstr. 32, 81379 München — ²Physik Department E12, Technische Universität München, James Fransk Str., 85748 Garching

Die Anregung von dichten Edelgasen und Edelgasgemischen mit Elektronenstrahlen ist durch die Bildung und den strahlenden Zerfall angeregter Excimermoleküle eine effektive Methode zur Erzeugung von Vakuumultraviolett (VUV) bzw. Extremultraviolett (XUV)-Licht. Der Einsatz extrem dünner Keramikmembranen als Eintrittsfolie ermöglicht es, die Beschleunigungsspannung der Elektronenstrahlen auf etwa 10kV zu beschränken. Dies bewirkt eine sehr kurze Reichweite der Elektronen im Gas und ermöglicht damit die Herstellung brillanter Ultraviolettlichtquellen in kompakter Bauform. Die Technologie dieser Lichtquellen, optische Parameter und Anwendungsbeispiele in der chemischen Analytik werden vorgestellt.

Gefördert durch BMBF 13N8819