P 15: Niedertemperaturplasmen, Plasmatechnologie II
Thursday, March 13, 2008, 14:30–16:00, 2G
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14:30 |
P 15.1 |
Spektroskopische Untersuchungen an HF-Quellen für positive Wasserstoffionen — •Armin Manhard, Ursel Fantz, Albrecht Stäbler, ASDEX Upgrade NBI Team, Henri Greuner und GLADIS Team
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14:45 |
P 15.2 |
Verdampfung und Schichtwachstum von Cäsium auf verschiedenen Oberflächen in Wasserstoffplasmen — •Simon König, Ursel Fantz, Robert Merkle und Martin Balden
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15:00 |
P 15.3 |
PECVD Abscheidung von C-Si Gradientenschichten auf Metallen — •Benedikt Niermann, Janine Schauer, Azadeh Hosseini Badakhshani und Jörg Winter
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15:15 |
P 15.4 |
Depth profiling and quantification of Oxygen PIII modified Titanium — •Martin Polak, Antje Quade, Hartmut Steffen, Andreas Ohl, Klaus-Dieter Weltmann, Marion Quaas, and Harm Wulff
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15:30 |
P 15.5 |
Oberflächenmodifizierung von Polyethylen mittels Plasma in einem Wendelförderer — •Meike Quitzau, Matthias Wolter und Holger Kersten
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15:45 |
P 15.6 |
Raum-zeitlich aufgelöste optische Emissionsstrukturen und Anregungsraten im Randschichtbereich kapazitiv gekoppelter RF-Plasmen — •Sebastian Nemschokmichal, Kristian Dittmann und Jürgen Meichsner
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