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P: Fachverband Plasmaphysik

P 8: Staubige Plasmen/Plasma-Wand-Wechselwirkung II

P 8.5: Vortrag

Donnerstag, 13. März 2008, 09:30–09:45, 2E

Beobachtung des Wachstums von Nanopartikeln in einer kapazitiv gekoppelten Entladung mittels der Rayleigh-Mie Streuellipsometrie — •Raphaela Weiß¹, Suk-Ho Hong², Jens Ränsch¹ und Jörg Winter¹ — ¹Ruhr-Universität Bochum, EP II, 44780 Bochum, Deutschland — ²Association EURATOM-CEA sur la Fusion Contrôlée, DRFC/SIPP/GIPP, CEA/Cadarache, 13108 Saint Paul-lez-Durance, Frankreich

Die Rayleigh-Mie Streuellipsometrie eignet sich hervorragend um Nanopartikel in einem reaktiven Plasma in situ beim Wachstumsprozess zu beobachten. Bei dieser Diagnostikmethode wird ein polarisierter Laserstrahl in das reaktive Plasma geleitet und die Polarisationsänderung des an den Partikeln gestreuten Lichtes unter 90^∘ mit Hilfe der ellipsometrischen Winkel Ψ und Δ detektiert. Hieraus lassen sich die Radiusfunktion r(t) sowie der komplexe Brechungsindex m = n − ki der Partikel bestimmen.

Wir präsentieren und diskutieren Ergebnisse dieser Rayleigh-Mie Streuellipsometrie-Messungen an kapazitiv gekoppelten Plasmen mit unterschiedlichen Entladungsparametern wie die eingekoppelte Leistung oder die Gaszusammensetzung.

Diese Arbeit wird gefördert vom Graduiertenkolleg 1051 und der Ruhr-University Research School.