Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Fachverband Plasmaphysik

P II: Poster: Niedertemperaturplasmen, Plasmatechnologie

P II.17: Poster

Dienstag, 11. März 2008, 11:00–13:00, Poster C3

Nichtlineare Ohmsche und stochastische Heizung in kapazitiven Hochfrequenzentladungen — •Thomas Mussenbrock¹, Dennis Ziegler¹, Ralf Peter Brinkmann¹, Michael A. Lieberman² und Allan J. Lichtenberg² — ¹Ruhr Universität Bochum — ²University of California at Berkeley

In kapazitiven Hochfrequenzentladungen sind im Niederdruckbereich (<10 Pa) zwei Heizprozesse von besonderer Bedeutung: Ohmsche Heizung auf Grund elastischer Stöße von Elektronen mit Neutralen des Hintergrundgases und stochastische Heizung durch Impulstransfer von der hochfrequent oszillierenden Plasmarandschicht auf Elektronen. In diesem Beitrag zeigen wir, dass die Selbsterregung von Harmonischen im HF-Strom auf Grund der nichtlinearen Wechselwirkung zwischen Plasmabulk und Plasmarandschicht starken Einfluss auf die Heizung der Elektronen nimmt. Wir kommen zu dem Ergebnis, dass für eine vollständige Beschreibung der Elektronenheizung die Berücksichtigung nichtlinearer Effekte maßgeblich ist.