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Darmstadt 2008 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P II: Poster: Niedertemperaturplasmen, Plasmatechnologie

Dienstag, 11. März 2008, 11:00–13:00, Poster C3

11:00 P II.1 Comparison of NO concentration and UV emission in a N2/O2 RF discharge. — •Maalolan Ramanujam, Jakob Barz, Michael Mueller, and Herwig Brunner
11:00 P II.2 Plasmagestützte Schichtabscheidung mittels bipolarem Substratbiasing — •Evelyn Häberle, Jochen Kopecki, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
11:00 P II.3 Entwicklung einer mikrowellenbasierten Atmosphärendruck-Mikroplasmaquelle — •Christian Langbein, Ulrich Schweitzer, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
11:00 P II.4 Untersuchungen zur Skalierbarkeit eines Mikrowellenplasmabrenners bei Atmosphärendruck von 2,45 GHz auf 915 MHz — •Dennis Kiesler, Martina Leins, Matthias Walker, Andreas Schulz und Ulrich Stroth
11:00 P II.5 Entwicklung und Charakterisierung einer Mikrowellen-Plasmaquelle bei Atmosphärendruck — •Martina Leins, Klaus-Martin Baumgärtner, Andreas Schulz, Matthias Walker, Uwe Schumacher und Ulrich Stroth
11:00 P II.6 Untersuchung von plasmapolymerisierten Barriereschichten für flexible Dünnschichtsolarzellen mittels In-situ-FTIR — •Jochen Kopecki, Evelyn Häberle, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
11:00 P II.7 Particle-in-Cell simulations of a Double-Plasma Device — •Farah Aziz, Sebastian Enge, and Ulrich Stroth
11:00 P II.8 Selbstorganisierte Strukturen in dielektrischen behinderten Glimmentladungen — •Lars Stollenwerk, Hans-Georg Purwins und Ulrich Stroth
11:00 P II.9 Langmuir probe measurements in an inductively coupled radio frequency plasma — •Yusuf Celik, Beilei Du, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
11:00 P II.10 Numerical Modeling of Electron Heating in the Plasma Boundary Sheath — •Brian G. Heil, Julian Schulze, Thomas Mussenbrock, Ralf Peter Brinkmann, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
11:00 P II.11 Electric field reversals in single- and dual-frequency capacitively coupled radio frequency discharges at various pressures — •J Schulze, Z Donko, B Heil, D Luggenhölscher, T Mussenbrock, R P Brinkmann, and U Czarnetzki
11:00 P II.12 Investigations on Self-excited Plasma Series Resonance — •Christopher Knier, Julian Schulze, Dirk Luggenhölscher, Kostyantyn Polozhij, and Uwe Czarnetski
11:00 P II.13 Phase resolved Thomson scattering on an inductively coupled radio-frequency plasma discharge — •Dragos Liviu Crintea, Dirk Luggenhölscher, and Uwe Czarnetzki
11:00 P II.14 Die stoßbestimmte Schicht: Stufenmodell vs. exakte Lösung — •Ralf Peter Brinkmann
11:00 P II.15 Electron heating in asymmetric capacitively coupled RF discharges at low pressures — •J Schulze, B Heil, D Luggenhölscher, T Mussenbrock, R P Brinkmann, and U Czarnetzki
11:00 P II.16 Anregung von Harmonischen in kapazitiven Hochfrequenzentladungen: Ein räumlich aufgelöstes nichtlineares Modell — •Markus Gebhardt, Dennis Ziegler, Martin Lapke, Mustafa Bayrak, Thomas Mussenbrock und Ralf Peter Brinkmann
11:00 P II.17 Nichtlineare Ohmsche und stochastische Heizung in kapazitiven Hochfrequenzentladungen — •Thomas Mussenbrock, Dennis Ziegler, Ralf Peter Brinkmann, Michael A. Lieberman und Allan J. Lichtenberg
11:00 P II.18 An influence of the skin effect on plasma impedance in an inductively coupled RF discharge — •Kostyantyn Polozhiy and Dmytro Rafalskyi
11:00 P II.19 Dynamics of E to H Mode Transitions in Inductively Coupled Discharges — •Philipp Kempkes, Jan Tenfelde, and Henning Soltwisch
11:00 P II.20 A retarding field analyzer for arbitrarily biased substrates in reactive plasmas — •Tim Baloniak and Achim von Keudell
11:00 P II.21 Plasma-deposition of low stress a-Si:H/a-C:H multi-layers — •Azadeh Hosseini Badakhshani, Janine Schauer, Benedikt Niermann, and Jörg Winter
11:00 P II.22 Pulsed Low Frequency Inductively Coupled Plasma Source — •Christian Teske, Joachim Jacoby, Waldemar Schweizer, and Jörg Wiechula
11:00 P II.23 Investigation of an RF ICP — •Jörg Wiechula, Marcus Iberler, Christian Teske, Waldemar Schweizer, and Joachim Jacoby
11:00 P II.24 A New Dry Etch Chemistry in Deep Trench Silicon Plasma Etching For Sub-100nm Technologies — •Harald Richter, Siegfried Günther, Stephan Wege, Sven Barth, Ioan Costina, Günter Weidner, Steffen Marschmeyer, and Heike Silz
11:00 P II.25 Population Inversion of Excited Hydrogen Atoms in a Recombining Hydrogen Plasma Jet — •Onno Gabriel, Suleiman Elhamali, Jeroen van den Dungen, Daan Schram, and Richard Engeln
11:00 P II.26 Simulationen zur Entstehung und Extraktion negativer Wasserstoffionen an HF-Ionenquellen für ITER — •Raphael Gutser, Dirk Wünderlich, Ursel Fantz und NNBI -Team
11:00 P II.27 Untersuchungen an HF-angeregten Metallhalogenidplasmen — •Stefan Briefi, Ursel Fantz, Patrick Starke, Stephan Dietrich und Josef Griesbauer
11:00 P II.28 Plasmaparameterprofile in einer Quelle für negative Ionen — •Stephan Dietrich, Sina Christ-Koch und Ursel Fantz
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