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P: Fachverband Plasmaphysik
P IV: Poster: Niedertemperaturplasmen II, Astrophysikalische Plasmen, Magnetischer Einschluss, Plasma-Wand-Wechselwirkung
P IV.21: Poster
Thursday, March 13, 2008, 16:00–18:30, Poster C2
CF-Kinetik in gepulsten CF4/H2 RF-Plasmen — •Sergey Stepanov1, Onno Gabriel2 und Jürgen Meichsner1 — 1Universität Greifswald, Institut für Physik, Felix-Hausdorff-Str. 6, 17487 Greifswald — 2Eindhoven University of Technology, Department of Applied Physics
Das CF-Molekül ist als ein kurzlebiges Radikal in fluorkohlenstoffhaltigen Plasmen bekannt und spielt eine wichtige Rolle in plasmachemischen Prozessen. Die Konzentration von CF wird in einem gepulsten kapazitiv gekoppelten CF4/H2 RF-Plasma mittels InfraRed Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy (IR-TDLAS) absolut bestimmt. Das Absorptionsspektrum für die elektronischen Grundzustände 2Π1/2- und 2Π3/2 wurde berechnet und das Dublett R(7.5) für die Messungen ausgewählt. Die beiden Absorptionslinien bei 1308,4959 cm−1 bzw. 1308,5032 cm−1 besitzen jeweils eine Stärke von 3,49*10−19 cm/Molekül. Unter bestimmten Plasmabedingungen weisen die zeitlichen Verläufe der CF-Dichte am Anfang der “Plasma-an“-Phase kurzzeitige Überhöhungen auf, die aus der Literatur nicht bekannt sind. Die zugehörigen zeitlichen Verläufe der C2F4-Dichten zeigen einen markanten Abbau von C2F4 in der “Plasma-an“-Phase und korrelieren mit der Überhöhung der CF-Dichte. In massenspektrometrischen Untersuchungen wurde festgestellt, dass das Fragmention CF+ ein Hauptprodukt bei der Elektronenstoßionisation von C2F4 darstellt [1]. Die Dissoziation von C2F4 wird deshalb als eine wesentliche Quelle für die Überhöhung der CF-Dichte angesehen. [1]: H U Poll and J Meichsner 1987 Contrib. Plasma Phys. 27 359