Dresden 2009 – scientific programme
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O: Fachverband Oberflächenphysik
O 27: Poster Session I (Methods: Scanning probe techniques; Methods: Atomic and electronic structure; Methods: Molecular simulations and statistical mechanics; Oxides and Insulators: Clean surfaces; Oxides and Insulators: Adsorption; Oxides and Insulators: Epitaxy and growth; Semiconductor substrates: Clean surfaces; Semiconductor substrates: Epitaxy and growth; Semiconductor substrates: Adsorption; Nano- optics of metallic and semiconducting nanostructures; Electronic structure; Methods: Electronic structure theory; Methods: other (experimental); Methods: other (theory); Solutions on surfaces; Epitaxial Graphene; Surface oder interface magnetism; Phase transitions; Time-resolved spectroscopies)
O 27.90: Poster
Tuesday, March 24, 2009, 18:30–21:00, P2
Prozessoptimierung der Sputterstrategie von fokussierten Bi-Ionenstrahlen mit Standard ”Focused Ion Beam - FIB” Anlagen. — •Rüdiger Schott, Paul Mazarov, Rolf Wernhardt und Andreas D. Wieck — Lehrstuhl für Angewandte Festkörperphysik, Ruhr-Universität Bochum, D-44780 Bochum
Fokussierte Ionenstrahlen sind ein vielfältiges und nützliches Werkzeug in Gebieten der Forschung und Industrie. Die Verwendung von Bismutionen zum lokalen, maskenlosen Ionenätzen in Standard FIB-Anlagen ohne Massenseparator besitzt einige Vorteile gegenüber den meist verwendeten Galliumionen. Die Bismut Flüssigmetallionenquelle [1] liefert schwere, monoisotope Ionen (209 u) und deren Cluster, wobei Teilchen mit einfacher Ladung zu 95% dominant sind. Die schweren Ionen und besonders deren Cluster dringen weniger tief in die Oberfläche der Probe ein, wodurch ihr Energieübertrag an die Oberflächenatome erhöht wird. Dies führt zu einer deutlich höheren Sputterrate und einer geringeren Kontaminationstiefe der Oberfläche. Zusätzlich wird der Ionenätzprozess optimiert, indem Parameter wie die Haltezeit pro Punkt variiert und die Ionenätzbedingungen durch das Vorformen der Probenoberfläche verbessert werden.
[1] P.Mazarov, A. Melnikov, R. Wernhardt, and A. D. Wieck, ”Long-life bismuth liquid metal ion source for focussed ion beam application”, Applied Surface Science 254, 7401-7404 (2008).