|
17:30 |
P 10.1 |
Charakterisierung einer HF-Mikroplasmaquelle für biomedizinische Anwendungen — •Nikita Bibinov, Silvio Kühn, Roland Gesche und Peter Awakowicz
|
|
|
|
17:30 |
P 10.2 |
Cäsiumdynamik in ITER-relevanten Quellen für negative Wasserstoffionen. — •Raphael Gutser, Dirk Wünderlich, Ursel Fantz und NNBI- Team
|
|
|
|
17:30 |
P 10.3 |
Messungen des Energiestroms in HiPIMS-Plasmen — •Marc Stahl, Daniel Lundin, Matthias Wolter, Ulf Helmersson und Holger Kersten
|
|
|
|
17:30 |
P 10.4 |
Entwicklung, Aufbau und Untersuchung eines MHD-Plasmaventils — •Waldemar Schweizer, Christian Teske, Joachim Jacoby und Jörg Wiechula
|
|
|
|
17:30 |
P 10.5 |
Absorptionsspektroskopie zur Ba-Dichtemessung in HID-Lampen mittels UHP-Lichtquelle — •Michael Westermeier, Jens Reinelt, Cornelia Ruhrmann, Jürgen Mentel und Peter Awakowicz
|
|
|
|
17:30 |
P 10.6 |
Einfluss von Plasmalampen auf die abendliche Melatoninausschüttung — •Ruslan Kozakov und Heinz Schöpp
|
|
|
|
17:30 |
P 10.7 |
Untersuchung der Leistungsbilanz der Modelllampe im AC Betrieb — •Jens Reinelt, Michael Westermeier, Jürgen Mentel und Peter Awakowicz
|
|
|
|
17:30 |
P 10.8 |
Research on High-Efficient Hg-free Plasma Lamps — •Ralf Methling, Rene Bussiahn, Steffen Franke, Sergey Gorchakov, Manfred Kettlitz, Hartmut Lange, Hartmut Schneidenbach, Heinz Schöpp, and Martin Wendt
|
|
|
|
17:30 |
P 10.9 |
Untersuchung und Charakterisierung einer Mikrowellenplasmaquelle bei 915 MHz — •Jochen Kopecki, Dennis Kiesler, Martina Leins, Andreas Schulz, Matthias Walker, Klaus-Martin Baumgärtner, Horst Mügge und Ulrich Stroth
|
|
|
|
17:30 |
P 10.10 |
Local deposition of fluoro-polymer thin films from C3F8-CH4 mixtures using an atmospheric pressure plasma jet — •Andreas Vogelsang, Jan Schäfer, Rüdiger Foest, and Klaus-Dieter Weltmann
|
|
|
|
17:30 |
P 10.11 |
Comparison of surface functionalization of different polymers by means of an atmospheric pressure plasma jet (APPJ) — •Katja Fricke, Antje Quade, Karsten Schröder, Thomas von Woedtke, and Klaus-Dieter Weltmann
|
|
|
|
17:30 |
P 10.12 |
Plasma Etching of High-k Dielectric HfO2 Films for Technological Applications — •Harald Richter, Mirko Fraschke, Mindaugas Lukosius, Christian Wenger, Dirk Wolansky, Jürgen Berthold, Steffen Marschmeyer, and Ioan Costina
|
|
|
|
17:30 |
P 10.13 |
Comparative chemical reaction studies of CH4/Ar, C2H4/Ar and C2H6/Ar gas mixture dielectric barrier discharge plasma: mass spectrometrical analysis — •Abhijit Majumdar, Tin Maung Tun, and Rainer Hippler
|
|
|
|
17:30 |
P 10.14 |
Einfluss von bipolarem Substratbiasing auf das Schichtwachstum — •Evelyn Häberle, Jochen Kopecki, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
|
|
|
|
17:30 |
P 10.15 |
Metallisierung von Kohlenstoff-Nanofasern — •Volker Brüser und Sina Kutschera
|
|
|
|
17:30 |
P 10.16 |
Pulvermodifikation mittels Hohlkathodenglimmentladung in einem Wendelförderer am Beispiel von Polyethylen — Meike Quitzau, Matthias Wolter und •Holger Kersten
|
|
|