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Greifswald 2009 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 10: Poster: Plasmatechnologie

Dienstag, 31. März 2009, 17:30–19:30, Foyer des IfP

17:30 P 10.1 Charakterisierung einer HF-Mikroplasmaquelle für biomedizinische Anwendungen — •Nikita Bibinov, Silvio Kühn, Roland Gesche und Peter Awakowicz
17:30 P 10.2 Cäsiumdynamik in ITER-relevanten Quellen für negative Wasserstoffionen. — •Raphael Gutser, Dirk Wünderlich, Ursel Fantz und NNBI- Team
17:30 P 10.3 Messungen des Energiestroms in HiPIMS-Plasmen — •Marc Stahl, Daniel Lundin, Matthias Wolter, Ulf Helmersson und Holger Kersten
17:30 P 10.4 Entwicklung, Aufbau und Untersuchung eines MHD-Plasmaventils — •Waldemar Schweizer, Christian Teske, Joachim Jacoby und Jörg Wiechula
17:30 P 10.5 Absorptionsspektroskopie zur Ba-Dichtemessung in HID-Lampen mittels UHP-Lichtquelle — •Michael Westermeier, Jens Reinelt, Cornelia Ruhrmann, Jürgen Mentel und Peter Awakowicz
17:30 P 10.6 Einfluss von Plasmalampen auf die abendliche Melatoninausschüttung — •Ruslan Kozakov und Heinz Schöpp
17:30 P 10.7 Untersuchung der Leistungsbilanz der Modelllampe im AC Betrieb — •Jens Reinelt, Michael Westermeier, Jürgen Mentel und Peter Awakowicz
17:30 P 10.8 Research on High-Efficient Hg-free Plasma Lamps — •Ralf Methling, Rene Bussiahn, Steffen Franke, Sergey Gorchakov, Manfred Kettlitz, Hartmut Lange, Hartmut Schneidenbach, Heinz Schöpp, and Martin Wendt
17:30 P 10.9 Untersuchung und Charakterisierung einer Mikrowellenplasmaquelle bei 915 MHz — •Jochen Kopecki, Dennis Kiesler, Martina Leins, Andreas Schulz, Matthias Walker, Klaus-Martin Baumgärtner, Horst Mügge und Ulrich Stroth
17:30 P 10.10 Local deposition of fluoro-polymer thin films from C3F8-CH4 mixtures using an atmospheric pressure plasma jet — •Andreas Vogelsang, Jan Schäfer, Rüdiger Foest, and Klaus-Dieter Weltmann
17:30 P 10.11 Comparison of surface functionalization of different polymers by means of an atmospheric pressure plasma jet (APPJ) — •Katja Fricke, Antje Quade, Karsten Schröder, Thomas von Woedtke, and Klaus-Dieter Weltmann
17:30 P 10.12 Plasma Etching of High-k Dielectric HfO2 Films for Technological Applications — •Harald Richter, Mirko Fraschke, Mindaugas Lukosius, Christian Wenger, Dirk Wolansky, Jürgen Berthold, Steffen Marschmeyer, and Ioan Costina
17:30 P 10.13 Comparative chemical reaction studies of CH4/Ar, C2H4/Ar and C2H6/Ar gas mixture dielectric barrier discharge plasma: mass spectrometrical analysis — •Abhijit Majumdar, Tin Maung Tun, and Rainer Hippler
17:30 P 10.14 Einfluss von bipolarem Substratbiasing auf das Schichtwachstum — •Evelyn Häberle, Jochen Kopecki, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth
17:30 P 10.15 Metallisierung von Kohlenstoff-Nanofasern — •Volker Brüser und Sina Kutschera
17:30 P 10.16 Pulvermodifikation mittels Hohlkathodenglimmentladung in einem Wendelförderer am Beispiel von PolyethylenMeike Quitzau, Matthias Wolter und •Holger Kersten
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