Greifswald 2009 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 11: Poster: Staubige Plasmen

P 11.8: Poster

Dienstag, 31. März 2009, 17:30–19:30, Foyer des IfP

Untersuchungen zum Verhalten von Mikropartikeln unter dem Einfluss zusätzlicher Felder — •Moritz Haass, Matthias Wolter und Holger Kersten — IEAP, Universität Kiel

Das Verhalten von Mikropartikeln vor Oberflächen (Gefäßwand) ist von großem Interesse, z.B. in Prozessplasmen. Auf die Mikropartikel wirken verschiedene Kräfte (Gravitation, elektrische Feldkraft,...), die in ihrer Gesamtheit zum Einfang dieser Partikel in der Plasmarandschicht führen können. Der Einfluss des Oberflächenpotentials (floatend, biased, ground) auf die Gleichgewichtsposition der Partikel wurde in unterschiedlichen Konfigurationen in einer asymmetrischen HF-Entladung (PerPlEx) untersucht. Senkrecht zur HF-Elektrode wird eine "Wand" in das System eingebracht, welche auf Floating- oder HF-Elektrodenpotential liegt. Für den Fall der floatenden Wand, kann bei den Partikeln ein "benetzungsartiges" Verhalten in Abhängigkeit vom Inertgasdruck und der HF-Leistung beobachtet werden. Bringt man eine Wand, die positiv oder negativ vorgespannt wird, parallel zur HF-Elektrode über die Partikel in die Entladung wird das Freifallverhalten der Mikropartikel beeinflusst, woraus man Aufschluss über die auf die Partikel wirkenden Kräfte erhalten kann. Zur Charakterisierung des HF-Plasmas wurden Langmuirsonden-,Thermosonden-, RFA-Messungen und optische Emissionsspektroskopie durchgeführt.