P 2: Plasmatechnologie
Montag, 30. März 2009, 14:00–16:10, HS Biochemie (groß)
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14:00 |
P 2.1 |
Fachvortrag:
3D MHD-Modellierung eines induktivgekoppelten Plasmabrenners — •Margarita Baeva, Dirk Uhrlandt und Klaus-Dieter Weltmann
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14:25 |
P 2.2 |
Optische Emissionsspektroskopie an einer Mikrowellenplasmaquelle für den Abbau von halogenierten VOC bei Atmosphärendruck — •Martina Leins, Andreas Schulz, Matthias Walker, Uwe Schumacher und Ulrich Stroth
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14:40 |
P 2.3 |
IR-spektroskopische Untersuchungen zum Abbau flüchtiger organischer Substanzen (VOC) in einem mehrstufigen, geschütteten Plasmareaktor — •Marko Hübner und Jürgen Röpcke
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14:55 |
P 2.4 |
Einfluss der Kondensatverteilung auf die Zündung von quecksilberfreien D-Lampen — •Cornelia Ruhrmann, Marc Czichy, Jürgen Mentel und Peter Awakowicz
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15:10 |
P 2.5 |
Resonanzheizung von kapazitiv gekoppelten, asymmetrischen Zweifrequenzentladungen — •Dennis Ziegler, Thomas Mussenbrock und Ralf Peter Brinkmann
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15:25 |
P 2.6 |
Reactive plasma jet high-rate etching of SiC — •Inga-Maria Eichentopf and Thomas Arnold
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P 2.7 |
Enhanced process simulation for Plasma Assisted Chemical Etching — •Johannes Meister and Thomas Arnold
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15:55 |
P 2.8 |
Untersuchungen zur Abscheidung von Aerosolen — •Siegfried Müller, Rolf-Jürgen Zahn und Norman Mleczko
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