Greifswald 2009 – wissenschaftliches Programm

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SYPS: 30 Jahre Pseudofunkentladung - Rückblick und aktuelle Arbeiten

SYPS 1: Symposium Teil 1: Grundlagen und Anwendungen

SYPS 1.3: Hauptvortrag

Mittwoch, 1. April 2009, 14:15–14:45, HS Physik

Der Pseudofunken als intensive Quelle für EUV- und weiche Röntgenstrahlung — •Klaus Bergmann — Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstr. 15, 52074 Aachen

Die Pseudofunkenentladung ist ideal zur Erzeugung von Pinchplasmen als Quelle intensiver EUV- und weicher Röntgenstrahlung geeignet. Durch eine niederinduktive Einkopplung kapazitiv gespeicherter Energie von wenigen Joule lassen sich Strompulse im Bereich mehrerer 10 kA und typisch 100 ns Pulsdauer erzeugen. Diese Parameter sind für die Kompression und Aufheizung des Betriebsgases wie z.B. Xenon, Stickstoff oder Argon zur Anregung charakteristischer, kurzwelliger Strahlung notwendig. Die von Pseudofunkenschaltern bekannten Eigenschaften einer hohen Standzeit des Elektrodensystems, bedingt durch einen großflächigen Ansatz des Stromes, und der Möglichkeit einer Repetitionsrate von bis zu 10 kHz lassen sich auf die Erzeugung von Pinchplasmen übertragen. Diese Eigenschaften sind insbesondere für eine kommerzielle Nutzung dieser Technologie Voraussetzung. So sind heute Quellen mit einer Leistungsaufnahme bis zu 10 kW im industriellen Einsatz. Im Vortag wird auf die Entwicklung in den letzten 10 Jahren und den Stand der Technik für Stahlquellen um 13.5 nm und im Wasserfenster eingegangen. Derzeitige und künftige Einsatzgebiete werden skizziert.