Hamburg 2009 – scientific programme

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Q: Fachverband Quantenoptik und Photonik

Q 62: Photonik II

Q 62.1: Talk

Friday, March 6, 2009, 14:00–14:15, Audi-A

Entspiegelung von Quarzglas für den UV-Bereich durch statistische Oberflächenstrukturen — •Marcel Schulze, Ernst-Bernhard Kley und Andreas Tünnermann — Institut für Angewandte Physik, Friedrich-Schiller-Universität Jena

In vielen Anwendungsbereichen der Optik werden konventionelle Antireflexbeschichtungen mehr und mehr durch Antireflexnanostrukturen ersetzt, welche eine wesentlich höhere Bandbreite besitzen und, insbesondere bei Kunststoffoptiken, eine preiswertere Entspiegelungsalternative darstellen. Problematisch ist jedoch immer noch die Realisierung auf Quarzglasoptiken, sowie die Ausdehnung in den UV-Bereich. Hierfür wurde ein Prozess entwickelt, der die reproduzierbare und schnelle Herstellung von statistisch verteilten Nanostrukturen in Quarzglas erlaubt, ohne dass aufwändige Lithographieprozesse notwendig sind.

Dabei wird ein Plasmaätzprozess genutzt, bei dem es unter bestimmten Prozessbedingungen zur Bildung von statistisch verteilten Nanostrukturen kommt. Durch die Wahl der Prozessparameter (Druck, Temperatur, HF-Leistung, Gasart und -zusammensetzung, Ätzzeit) kann Einfluss auf die Größe der Nanostrukturen und damit auf die Entspiegelungswirkung genommen werden. Es wurden Strukturen mit lateralen Größen von unter 50 nm hergestellt. Diese wirken entspiegelnd bis in den UV-Bereich. Der Transmissionsgrad des Quarzglases konnte auf über 99% im Bereich 350 bis 560 nm gesteigert werden.