K 3: EUV - Quellen und deren Anwendungen
Mittwoch, 10. März 2010, 14:00–15:30, F 442
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14:00 |
K 3.1 |
Hauptvortrag:
Vakuum-Ultraviolett (VUV) Emission von flüssigem Argon bei Anregung mit Elektronenstrahlen. — •Thomas Heindl, Thomas Dandl, Alexander Fedenev, Martin Hofmann, Reiner Krücken, Jochen Wieser und Andreas Ulrich
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14:30 |
K 3.2 |
Direct evaluation of spatio-temporal coherence properties of free electron laser pulses at FLASH — •Sebastian Roling, Rolf Mitzner, Björn Siemer, Michael Wöstmann, Kai Tiedtke, and Helmut Zacharias
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14:45 |
K 3.3 |
Der Laser induzierte Vakuumfunken als Quelle für die Extrem Ultraviolett Lithographie — •Klaus Bergmann
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15:00 |
K 3.4 |
Dosisregelungssystem und Ladegerät einer entladungsbasierten 40kHz-XUV-Quelle — •Sven Probst, Jürgen Klein, Stefan Seiwert und Hussein El-Husseini
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15:15 |
K 3.5 |
Systemlösungen für die Nutzung der XUV-Strahlung in der Nanotechnologie — •Larissa Juschkin
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