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P: Fachverband Plasmaphysik

P 1: Plasmatechnology

P 1.3: Vortrag

Montag, 8. März 2010, 14:40–14:55, B 302

Lokale Abscheidung von Siliziumoxidschichten mittels atmosphärischen Plasmajets — •Manuela Janietz und Thomas Arnold — Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung, Leipzig, Deutschland

Für Siliziumoxidschichten gibt es ein breites Anwendungsfeld, das jedoch durch die bisherigen Herstellungsmethoden, die hohe Temperaturen oder niedrige Drücke erfordern, eingeschränkt wurde. Der vorgestellte Plasmajet arbeitet hingegen in offener Umgebungsluft und ermöglicht die Bearbeitung temperaturempfindlicher Materialien. Aufgebaut ist er aus zwei koaxialen Rohren, in denen die Prozessgase Helium, Stickstoff und Sauerstoff mittels gepulster Mikrowellenstrahlung (2,45 MHz) angeregt werden. Als Siliziumlieferant wird das Monomer Hexamethyldisiloxan (HMDSO) eingesetzt. Bei einem Gesamtgasfluss von circa 1500 sccm und Mikrowellenleistungen zwischen 3 und 5 W wurden Abscheidungsraten bis zu 30 nm/s erzielt. Die hergestellten Siliziumoxidschichten von einigen hundert Nanometern Dicke wurden in Abhängigkeit von den Plasmaparametern umfangreich hinsichtlich chemischer Zusammensetzung und physikalischer Eigenschaften charakterisiert.