Hannover 2010 – scientific programme
Parts | Days | Selection | Search | Downloads | Help
P: Fachverband Plasmaphysik
P 9: Poster: Plasmatechnology
P 9.3: Poster
Tuesday, March 9, 2010, 16:00–18:00, Lichthof
HMDSO Deposition auf Polyethylen-Pulver mittels Hohlkathodenglimmentladung in einem Wendelförderer — •Meike Quitzau, Matthias Wolter und Holger Kersten — Institut für Experimentelle und Angewandte Physik, Universität Kiel
Die Abscheidung dünner Schichten mittels plasmagestützter Gasphasenabscheidung (PECVD) ist sehr effizient, um Polymere wie z.B. Polyethylen (PE, (C2H4)n) mit definierten funktionellen Oberflächeneigenschaften zu erzeugen. So können beispielsweise solche Polymerfilme als Schutzschichten für optische Bauteile, Barriereschichten für Lebensmittel oder Beschichtungen für biokompatible Materialien eingesetzt werden. Für siliziumoxidhaltige Schichten wird Hexamethyldisiloxan (HMDSO) als Prekursor und Argon als Trägergas verwendet.
In den vorliegenden Untersuchungen wurde PE-Pulver mittels einer Hohlkathodenglimmentladung in einem Wendelförderer modifiziert. Dieser Aufbau ermöglicht eine kontinuierliche und homogene Oberflächenmodifikation bei beliebiger Behandlungszeit. Die im Ar/HMDSO Plasma gebildeten reaktiven Spezies wurden mit optischer Emissionspsektroskopie bei verschiedenen Gasmischungsverhältnissen untersucht. Die Zusammensetzung (funktionelle Gruppen) der auf dem PE-Pulver abgeschiedenen SiOx-Schicht wurde mit Röntgenphotoelektronenspektroskopie analysiert. Mittels Kontaktwinkelmessungen konnten die Änderung der Oberflächenenergie und die Langzeitstabilität der Oberflächenmodifikation an Luft bei unterschiedlichen Ar/HMDSO Verhältnissen verifiziert werden.