Hannover 2010 – wissenschaftliches Programm

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SYLL: Symposium Lasersysteme und Laseranwendungen: Aktuelle Entwicklungen und Trends

SYLL 2: Anwendungen

Dienstag, 9. März 2010, 16:30–18:30, A 001

	16:30	SYLL 2.1	Hauptvortrag: Laser application for nanophotonics and metamaterials — •Carsten Reinhardt, Wei Cheng, Andrey B. Evlyukhin, Arseniy I. Kuznetsov, Andreas Seidel, and Boris N. Chichkov
	17:00	SYLL 2.2	Hauptvortrag: Hochleistungs-Ultrakurzpulslaser als neues Werkzeug für die Fertigungstechnik und Oberflächenfunktionalisierung — •Arnold Gillner, Stephan Eifel und Andreas Dohrn
	17:30	SYLL 2.3	Hauptvortrag: (Ultra-)Kurzpulslaser und Prozesse für Photovoltaikproduktion — •Uwe Stute
	18:00	SYLL 2.4	Hauptvortrag: Anwendungen neuartiger abstimmbarer ps und fs-Faserlaser im Sichtbaren und NIR — •Wilhelm Kaenders, Thomas Hellerer und Frank Lison