Hannover 2010 – scientific programme
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SYPT: Symposium Plasmatechnik für die Optikherstellung
SYPT 1: Beschichtungsverfahren
SYPT 1.2: Invited Talk
Monday, March 8, 2010, 14:10–14:40, E 415
Plasma und Optische Technologien (PluTO) — •Norbert Kaiser1, Peter Awakowicz2, Ralf Peter Brinkmann2, Thomas Frauenheim3, Thomas Musch2, Andreas Ohl4, Detlev Ristau5, Ilona Rolfes6 und Olaf Stenzel1 — 1Fraunhofer IOF, Jena — 2Ruhr-Universität Bochum — 3Universität Bremen — 4Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V., Greifswald — 5Laserzentrum Hannover e.V. — 6Leibniz-Universität Hannover
Geladene und neutrale Teilchen führen zu vielfältigen physikalischen und chemischen Reaktionen beim Wachstum dünner optischer Schichten. Der Schlüssel zum Verständnis dieser Prozesse liegt in der extrem radikalen Substratrandschicht, in der die von der Aufdampfquelle einfallenden Atome und Moleküle unter Plasmaeinwirkung auf das Substrat treffen und dort die Schicht bilden. Genau hier werden die späteren Schichteigenschaften vorbestimmt, und nur hier können sie eingestellt werden. Das gelingt, wenn die Zusammenhänge zwischen Plasma und Schicht bekannt sind. Seit Mai 2009 arbeiten dazu im BMBF Projekt PluTO Plasma- und Optikexperten zusammen. Während die Optiker die Untersuchungen ins schichttechnische Detail treiben, gehen die Plasmaexperten plasmatechnisch ins Detail. Es werden theoretische Modellvorstellungen zum Plasma erarbeitet, und es laufen theoretische, simulative, und technologische Aktivitäten zur Multipolresonanzsonde, einem innovativen Konzept zur prozesstauglichen Diagnostik schichtabscheidender Plasmen. Es beginnen Simulationsrechnungen zu Struktur-Eigenschaftsbeziehungen, deren Abgleich mit höchstauflösender Elektronenmikroskopie erfolgt.