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SYPT: Symposium Plasmatechnik für die Optikherstellung

SYPT 2: Plasmatechnik

SYPT 2.1: Hauptvortrag

Montag, 8. März 2010, 16:30–17:00, E 415

Niedertemperatur-Plasmen in der Feinoptik — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Andreas Ohl und Hartmut Steffen — Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie Greifswald e.V.

Ein im Spannungsfeld von höchster Qualität von optischen Schichten und Wirtschaftlichkeit agierendes Verfahren ist das der ’Plasma Ion Assisted Deposition’ (PIAD). Bei diesem wird eine Plasmastrahlquelle im Hochvakuum (≤ 10⁻⁴ mbar) betrieben. Derzeitige Verfahren sind in der Lage, einen divergenten Plasmastrahl aus einer kompakten Quelle zu extrahieren und Ionenenergien von ≤ 150 eV und eine Ionenstromdichte von etwa 1 mA/cm² am Ort der Substrate von der Fläche von ca. 1 m² zu erzeugen. Das bisherige Vorgehen zur Optimierung der Beschichtungsergebnisse basiert hauptsächlich auf der Untersuchung von Schichteigenschaften in Abhängigkeit der regelbaren Prozessparameter (Gaszufluss, Bias-Spannung, Beschichtungsrate, etc.). Demgegenüber sind die vorzustellenden Arbeiten auf plasmaphysikalische Fragestellungen ausgerichtet, also der Charakterisierung des Plasmas vor den Substraten und dessen Einfluss auf die Schichtbildung. Anhand einer am Markt befindlichen technischen Lösung, der sogenannten APS, welche sich auf die Anwendung statischer Magnetfelder auf Glühkathoden-DC-Entladungen stützt, wird die Methodik unterschiedlicher Plasmadiagnostik-Verfahren erörtert, sowie der Stand des Aufbaus und erste Ergebnisse vorgestellt. Gefördert durch das BMBF (Fkz. 13N10462).