Dresden 2011 – wissenschaftliches Programm

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DS: Fachverband Dünne Schichten

DS 42: Poster I: Progress in Micro- and Nanopatterning: Techniques and Applications (jointly with O); Spins in Organic Materials; Ion Interactions with Nano Scale Materials; Organic Electronics and Photovoltaics; Plasmonics and Nanophotonics (jointly with HL and O); High-k and Low-k Dielectrics (jointly with DF); Organic Thin Films; Nanoengineered Thin Films; Layer Deposition Processes; Layer Properties: Electrical, Optical, and Mechanical Properties; Thin Film Characterisation: Structure Analysis and Composition; Application of Thin Films

DS 42.110: Poster

Mittwoch, 16. März 2011, 15:00–17:30, P1

Zelladhäsive Plasmapolymerschichten aus Ethylendiamin — •Holger Testrich, Steffi Kaledat, Mario Dünnbier und Jürgen Meichsner — Universität Greifswald, Institut für Physik, Felix-Hausdorff-Str. 6, D-17487 Greifswald

Dünne Plasmapolymerschichten mit einer Schichtdicke zwischen 50 und 100 nm wurden in einer asymmetrischen, kapazitiv gekoppelten Hochfrequenzentladung in einem Gemisch aus Argon und Ethylendiamin (EDA) hergestellt. Die plasmachemischen Stoffwandlungsprozesse wurden mit der optischen Emissionsspektroskopie, FTIR Spektroskopie und Massenspektrometrie untersucht. Die Charakterisierung der Schichteigenschaften erfolgte mittels Ellipsometrie, IRRAS und XPS. Die optische Emission des Plasmas ist neben charakteristischen Ar-Linien durch eine zunehmende Intensität von CN-Banden bestimmt. Stabile gasförmige Reaktionsprodukte sind insbesondere NH3, HCN und H2. Die dünnen plasmapolymerisierten Schichten aus EDA besitzen einen hohen Stickstoffanteil (N/C ca. 40%) und zeigen charakteristische IR-Absorptionsbanden der N-H, C-H und C-N Molekülschwingungen. Eine Lagerung an Luft führte zu einer Alterung der Schichten, wobei insbesondere sauerstoffhaltige Gruppen nachgewiesen wurden. Die Beschichtung von biomedizinisch relevanten Substraten (Implantate) führte zu einer signifikanten Erhöhung der Adhäsion und Ausbreitung von humanen Knochenzellen. Gefördert im Campus PlasmaMed, Nr.13N9774.