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MI: Fachverband Mikrosonden

MI 4: Poster: Microanalysis and Microscopy

MI 4.5: Poster

Montag, 14. März 2011, 17:30–19:30, P5

Simulation des Intensitätsverlaufs für eine neue Methode zum Nachweis von Antiphasengrenzen mittels Pseudo-Kossel-Verfahren an kompakten Proben im REM — •Enrico Langer und Siegfried Däbritz — Technische Universität Dresden, Institut für Festkörperphysik, 01062 Dresden, Deutschland

Ausgangspunkt sind eigene experimentelle Beobachtungen zum Einfluß von Stapelfehlern auf Pseudo-Kossel-Röntgeninterferenzen in Rückstrahlrichtung. Diese Ergebnisse an Stapelfehlern können direkt auf Antiphasengrenzen (APG) übertragen werden, da man diese APG als einen speziellen Stapelfehler betrachten kann. Anstatt einer Phasenverschiebung von α = ± 2 π/3 für intrinsische bzw. extrinsische Stapelfehler muß für Antiphasengrenzen eine Phasenverschiebung von α = ± π (π-Defekt) berücksichtigt werden. Aufgrund der Gemeinsamkeit einer Beugung auf Bragg-Linien besteht eine Analogie zwischen Weitwinkel-Röntgenbeugung im divergenten Strahl und der Weitwinkel-Elektronenbeugung im konvergenten Strahl (LACBED, Tanaka-Pattern) in der Transmissionselektronenmikroskopie (TEM). Die Betrachtungen in der TEM [1] bilden die Grundlage für ein theoretisches Modell zu den geometrisch komplizierten Weitwinkel-Bragg-Kurven bei der divergenten Röntgenbeugung im Rasterelektronenmikroskop (REM). Mittels kinematischer Beugungstheorie wurden die Rocking-Kurven für einen Idealkristall (α = 0) und einen Kristall mit einer Antiphasengrenze berechnet und gegenübergestellt. Im Ergebnis von dreidimensionalen Intensitätsberechnungen ist unter günstig gewählten geometrischen Aufnahmeparametern bei röntgenographischen Weitwinkel-Kurven eine deutliche Aufspaltung des Beugungsmaximums in zwei Maxima mit gleicher Intensität zu erwarten.

[1] J. P. Morniroli et al., Ultramicroscopy 98 (2003) 9-26.