Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 17: Poster: Plasmatechnologie

P 17.2: Poster

Mittwoch, 30. März 2011, 16:30–18:30, Foyer

Analyse von reaktiven Magnetronsputter-Prozessen mittels nicht-konventioneller Plasmadiagnostik — •Viktor Schneider¹, Maik Fröhlich¹, Sven Bornholdt¹, Daniel Lundin² und Holger Kersten¹ — ¹Institut für Experimentelle und Angewandte Physik, Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, D-24098 Kiel, Germany — ²IFM, Linköping University, SE-581 83 Linköping, Sweden

Die hohe Flexibilität von Magnetronsputter-Prozessen ermöglicht die Herstellung von Schichten mit gewünschten Eigenschaften (Zusammensetzung, Morphologie, Dicke, ...) für unterschiedliche Anwendungen. Beim reaktiven Magnetron-Sputtern, d.h. bei der Zufuhr von Reaktivgasen wie O₂ und N₂, ist es wichtig, die gewünschte Schichteigenschaft bei gleichzeitig hoher Depositionsrate zu erhalten. Im Rahmen dieser Untersuchungen wurden die Prozessbedingungen zur Abscheidung von Al₂O₃ mittels reaktivem Magnetron-Sputtern genauer untersucht. Das Magnetron wurde im DC-Modus (mit einem Al-Target) unter O₂-Zugabe betrieben. Das Ziel war es, die energetischen Verhältnisse auf der Substratoberfläche unter Einfluss des reaktiven Plasmas zu untersuchen. Der Energieeinstrom, hervorgerufen durch die unterschiedlichen Energiebeiträge der verschiedenen Plasmaspezies (Elektronen, Ionen, Neutrale, Moleküle) sowie durch die auftretende Strahlung, wurde bei unterschiedlichen Bias-Spannungen mit einer selbstentwickelten kalorimetrischen Sonde gemessen. Insbesondere werden die Ergebnisse mit Blick auf den Einfluss der Sauerstoff-Ionen und der AlxOy-Moleküle auf den Energieeintrag am Substrat diskutiert.