Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 3: Umwelttechnik / Mikroplasmen / Diagnostik

P 3.7: Vortrag

Dienstag, 29. März 2011, 12:30–12:45, HS H

Fokussierung von XUV-Strahlung einer Laser-Plasmaquelle mittels einer Multilayer Laue Linse — •Michael Reese¹, Tobias Liese², Peter Großmann¹, Hans-Ullrich Krebs² und Klaus Mann¹ — ¹Laser-Laboratorium-Göttingen, Hans-Adolf-Krebs-Weg 1, 37077 Göttingen, Deutschland — ²Institut für Materialphysik, Universität Göttingen, Friedrich-Hund-Platz 1, 37077 Göttingen, Deutschland

Extrem-ultraviolette (XUV-) Strahlung im Bereich des Wasserfensters (λ = 2,3nm - 4,4nm) eignet sich hervorragend für die Untersuchung organischer Proben in wässriger Umgebung. In diesem Wellenlängenbereich existieren jedoch keine refraktiven Optiken, sondern diffraktive Optiken werden sowohl zur Fokussierung als auch zur Abbildung eingesetzt. Ihr Auflösevermögen bestimmt sich durch die Breite der äußersten Zone, welche bisher auf 12 nm begrenzt ist. Ein alternativer Ansatz ist die aus Dünnschichtpaketen aufgebaute "Multilayer-Laue-Linse" (MLL), deren Strukturgrößen deutlich kleiner sein können. Im Institut für Materialphysik der Universität Göttingen wurde in Kombination von Pulsed Laser Deposition (PLD) und Focussed Ion Beam (FIB) eine MLL hergestellt und am Laser-Laboratorium Göttingen charakterisiert. Hierbei wird eine kompakte, laser-induzierte XUV-Plasmastrahlungsquelle eingesetzt. Mit einem Titan-gefiltertem gasförmigen Stickstoff Target wird dafür eine einzelne Emissionslinie (λ = 2,88 nm) erzeugt. Zur Charakterisierung der MLL wurden der Divergenzwinkel und die Strahltaille vermessen. Der Fokusdurchmesser kann mit 374 nm (FWHM) angegeben werden.