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PV: Plenarvorträge
PV 3: PV III
Dienstag, 29. März 2011, 08:30–09:15, HS G
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08:30 | PV 3.1 | Plenarvortrag: Plasma modeling as a tool to understand deposition rate loss in high power impulse magnetron sputtering — •Nils Brenning, Daniel Lundin, Michael A. Raadu, Chunqing Huo, and Ulf Helmersson |