Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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SYPD: Symposium Plasmadeposition von optischen und mechanischen Funktionsschichten

SYPD 1: Plasma und optische Funktionsschichten I

SYPD 1.2: Hauptvortrag

Dienstag, 29. März 2011, 10:40–11:10, HS G

Plasmagestützte Prozesse für die Optik — •Henrik Ehlers — Laser Zentrum Hannover

Mit dem Vordringen der Optischen Technologien ergeben sich im Bereich der optischen Funktionsschichten neue Herausforderungen, die insbesondere die Präzision und Stabilität hochkomplexer Schichtsysteme betreffen. Hierbei wird zunehmend auf plasma- und ionengestützte Prozesskonzepte gesetzt, deren Bedeutung und Verbreitung in der Präzisionsoptikfertigung in den letzten Jahren deutlich angestiegen ist. Neben Fortschritten auf den Gebieten der Prozesskomponenten und -führung kommt angepassten in-situ-Messmethoden ein hoher Stellenwert zu. Von zentraler Bedeutung ist in diesem Zusammenhang eine äußerst genaue Schichtdickenbestimmung auf der Basis eines direkten, optisch breitbandigen Monitors.

Aktuelle Entwicklungen ermöglichen es nicht nur die Schichtdicken, sondern auch die optischen Eigenschaften, beispielsweise den Brechungsindex, gezielt einzustellen. Dieser Freiheitsgrad konnte durch den Einsatz einer neuen Materialklasse erschlossen werden: Mischmaterialen mit einem variablem Mischungsverhältnis. Darüber hinaus rücken zusätzliche Anorderungen, wie z.B. Multifunktionalität oder Miniaturisierung, in den Fokus der Forschungsarbeiten.