Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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SYPD: Symposium Plasmadeposition von optischen und mechanischen Funktionsschichten

SYPD 1: Plasma und optische Funktionsschichten I

SYPD 1.3: Hauptvortrag

Dienstag, 29. März 2011, 11:10–11:40, HS G

Plasma und Optische Technologien (PluTO) — •Norbert Kaiser — Fraunhofer IOF, Jena

Die Zielstellung des PluTO-Projekts ist es, die Dünnschicht- und Plasmatechnologien zusammenzuführen. Dementsprechend setzt sich das Konsortium sowohl aus Experten der optischen Beschichtungstechnologie (Laserzentrum Hannover, Fraunhofer IOF) als auch der Plasmatechnik (INP Greifswald, Ruhr-Universität Bochum RUB) zusammen. Die verfügbaren Prozessplasmen, speziell die Randschichten, sollen mithilfe spezieller Sonden eingehend qualifiziert werden, so dass die Art, die Anzahl und die Energie der an den Schichtbildungsprozessen beteiligten Teilchen erstmals eingehend und umfassend bestimmt werden können. Die somit gewonnenen Daten werden die Grundlage einer numerischen Modellierung des Schichtwachstums auf atomarer Skala (Bremen Center of Computational Material Sciences) bilden. Im Ergebnis soll ein vertieftes Verständnis für die physikalischen Mechanismen gewonnen werden, die für den Einfluss der Plasmaeinwirkung auf die Schichteigenschaften verantwortlich sind. Gleichzeitig werden geeignete Monitorierungswerkzeuge zur Prozessüberwachung identifiziert und bereitgestellt. Erste Ergebnisse belegen bereits zum jetzigen Zeitpunkt die Tragfähigkeit des Ansatzes.