Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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SYPD: Symposium Plasmadeposition von optischen und mechanischen Funktionsschichten

SYPD 1: Plasma und optische Funktionsschichten I

SYPD 1.4: Hauptvortrag

Dienstag, 29. März 2011, 11:40–12:10, HS G

Untersuchungen zur APS - Plasmaexpansion und Konsequenzen für die Prozessführung — •Jens Harhausen, Rüdiger Foest, Andreas Ohl und Hartmut Steffen — Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V., Greifswald

Mit der Advanced Plasma Source (APS) von Leybold Optics ausgestattete Bedampfungsanlagen sind etablierte technische Systeme der plasmagestützten Deposition optischer Schichten. Die APS ist eine Glüh-Kathoden DC-Entladung, deren Impedanz über ein variables Magnetfeld geregelt wird. Die halboffene zylindrische Anordnung weist einen Druckgradienten zwischen der Quelle und dem Rezipienten auf, der über einen Expansionmechanismus eine schnelle Ionenkomponente erzeugt. Es ist von besonderem Interesse, die Strahlentstehung nachzuvollziehen, da diese die Übersetzung von den Stellgrössen der APS auf die Substratebene bewerkstelligt. Ziel ist die Optimierung des Verfahrens im Hinblick auf mechanische und optische Kenngrössen der Schichten sowie die Reproduzierbarkeit. Ergebnisse zur räumlichen Verteilung der Parameter der Elektronen- und Ionenkomponente, basierend auf Messungen mittels Langmuir-Sonde und Gegenfeldanalysator, werden vorgestellt. Die beobachteten Profile werden im Rahmen von Modellansätzen aus der Literatur für expandierende Plasmen diskutiert. Daneben werden mögliche Konsequenzen der Prozesssteuerung auf die Plasmaexpansion, z.B. einer Variation der Substrattemperatur, erläutert. Gefördert durch das BMBF (Fkz. 13N10462).