Kiel 2011 – wissenschaftliches Programm

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SYPD: Symposium Plasmadeposition von optischen und mechanischen Funktionsschichten

SYPD 2: Plasma und optische Funktionsschichten II

SYPD 2.4: Hauptvortrag

Dienstag, 29. März 2011, 15:00–15:30, HS G

Struktur-Eigenschaftsbeziehung bei PIAD-Schichten — •Olaf Stenzel — Fraunhofer IOF, Albert-Einstein-Str.7, 07745 Jena

Der Beitrag zeigt ausgewählte Ergebnisse zur Struktur-Eigenschaftsrelation von Dünnschichtproben, die mit plasma-ionengestützter Elektronenstrahlverdampfung (PIAD) mithilfe der APS-Quelle präpariert worden sind. Im Zentrum des Beitrags stehen die Materialien TiO2 und Al2O3. Zu Vergleichszwecken werden auch flankierende Untersuchungen an anderen oxidischen Schichtmaterialien herangezogen. Aufgezeigt werden Korrelationen zwischen den Ergebnissen von Strukturuntersuchungen mittels Röntgenreflektometrie und hochaufgelöster Elektronenmikroskopie, sowie optischen und mechanischen Schichteigenschaften (Brechzahl, Extinktionskoeffizient, Bandlücke, Shift, und mechanische Spannung).