K 3: Licht- und Strahlungsquellen II und deren Anwendungen
Montag, 12. März 2012, 16:30–18:15, V57.04
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16:30 |
K 3.1 |
Hauptvortrag:
LPP light source development for EUV lithography — •Norbert Böwering
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17:00 |
K 3.2 |
Brillanzsteigerung laser-produzierter weicher Röntgenstrahlung auf Basis von Gastargets — •Tobias Mey
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17:15 |
K 3.3 |
A high peak brightness Thomson scattering x-ray source using high-power lasers — •Michael Bussmann, Alexander Debus, Klaus Steiniger, Richard Pausch, Jurjen Couperus, Axel Jochmann, Arie Irman, Stephan Kraft, Matthias Siebold, Ulrich Schramm, and Thomas E. Cowan
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17:30 |
K 3.4 |
Efficiency of relativistic surface high harmonic generation at an optimized plasma scale length — •Jana Bierbach, Christian Rödel, Daniel an der Brügge, Mark Yeung, Thomas Hahn, Brendan Dromey, Sven Herzer, Silvio Fuchs, Arpa Galestian Pour, Michael Behmke, Mirela Cerchez, Oliver Jäckel, Dirk Hemmers, Malte C. Kaluza, Georg Pretzler, Oswald Willi, Alexander Pukhov, Matthew Zepf, and Gerhard G. Paulus
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17:45 |
K 3.5 |
Recent Studies on Vacuum Ultraviolet Radiation Generated during Pulsed Atmospheric Breakdown in Air — •Klaus Frank, George Laity, Andrew Fierro, Lynn Hatfield, Andreas Neuber, and Magne Kristiansen
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18:00 |
K 3.6 |
Einsatz von Laser-Plasma-Beschleunigern zur Reproduktion von Weltraumstrahlung und Qualifikation elektronischer Komponenten — •Oliver Karger, Thomas Königstein, James B. Rosenzweig, Georg Pretzler und Bernhard Hidding
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