Stuttgart 2012 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Aktualisierungen | Downloads | Hilfe

P: Fachverband Plasmaphysik

P 13: Poster: Niedertemperaturplasmsen

P 13.27: Poster

Dienstag, 13. März 2012, 16:30–19:00, Poster.III

Numerische Simulation von kapazitiven Mehrfrequenzentladungen für Sputter-Anwendungen — •Daniel Szeremley¹, Stefan Bienholz², Peter Awakowicz², Ralf Peter Brinkmann¹ und Thomas Mussenbrock¹ — ¹Lehrstuhl für Theoretische Elektrotechnik Ruhr-Universität Bochum — ²Lehrstuhl für allgemeine Elektrotechnik und Plasmatechnik Ruhr-Universität Bochum

Auf Grund ihrer besonderen Eigenschaften sind kapazitive Mehrfrequenzentladungen ein wichtiges Werkzeug für die Beschichtungstechnik. Insbesondere die Möglichkeit, die Ionen-Energieverteilungsfunktion über einen großen Bereich nahezu frei einstellen zu können macht diese Entladungen zu einem vielversprechenden Kandidaten zur Abscheidung nanostrukturierter Funktionsschichten. In kleineren Laboranlagen konnte effizientes Sputtern gezeigt werden. Eine Hochskalierung bzgl. Größe, Frequenz und Leistung, sowie das Erreichen einer Sputterausbeute vergleichbar mit der von Magnetron-Sputterquellen wirft allerdings Fragen auf, die nur mittels adäquater Experimente und angepasster Simulationen beantwortet werden können.

In diesem Beitrag werden erste numerische Simulationsergebnisse präsentiert, die mittels eines selbstkonsistenten Hybrid-Codes berechnet wurden. Im Mittelpunkt steht dabei die Ionen-Energieverteilungsfunktion, die mittels des elektrischen Asymmetrieeffektes eingestellt werden kann. Die numerischen Ergebnisse werden schließlich mit experimentellen Daten verifiziert.