Stuttgart 2012 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 14: Poster: Plasmatechnologie

P 14.2: Poster

Mittwoch, 14. März 2012, 16:30–19:00, Poster.III

Untersuchung zur Abscheidung von Siliziumoxid- und Zinkoxidschichten mittels MW-PECVD — •Stefan Merli, Moritz Scholze, Andreas Schulz, Matthias Walker und Ulrich Stroth — Institut für Plasmaforschung, Pfaffenwaldring 31, 70569 Stuttgart, Deutschland

Die Abscheidung optisch transparenter Schichten mittels plasmagestützter Gasphasenabscheidung (PECVD) ist von besonderem Interesse in vielen Anwendungsgebieten, wie zum Beispiel in der Optik oder der Automobilindustrie. Neben der guten Reproduzierbarkeit der optischen Schichteigenschaften ist oft auch der Schutz des Substrates gegen Witterung, Korrosion, Abrasion und UV-Strahlung gefragt.

In diesem Beitrag werden Untersuchungen zur Hochrateabscheidung von dünnen, transparenten Siliziumoxid- und Zinkoxidschichten mittels eines Mikrowellen-PECVD Verfahrens bei 2,45 GHz im Niederdruckbereich vorgestellt. Die Siliziumoxidschicht, welche aus einer Mischung aus Hexamethyldisiloxan (HMDSO) und Sauerstoff abgeschieden wird, dient hierbei vor allem als Abrasions- und Kratzschutz, während die Zinkoxidschicht, gewonnen aus Diethylzink und Sauerstoff, das Substrat vor UV-Strahlung schützen soll.

Das Abscheideverhalten sowie die optischen Eigenschaften beider Schichttypen werden bezüglich der Beschichtungsparameter untersucht und mithilfe von FTIR-Spektroskopie in Zusammenhang mit der chemischen Schichtzusammensetzung gebracht.