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P: Fachverband Plasmaphysik

P 23: Plasmatechnologie I (Niederdruckkonzepte)

P 23.6: Vortrag

Freitag, 16. März 2012, 12:25–12:40, V57.01

Untersuchungen zum Einfluss von Elektronen eines reaktiven Magnetronplasmas im unbalanced mode auf den Energieeintrag am Substrat — •Maik Fröhlich¹, Viktor Schneider¹, Daniel Lundin², Sven Bornholdt¹ und Holger Kersten¹ — ¹Institut für Experimentelle und Angewandte Physik, Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, D-24098 Kiel — ²IFM Material Physics, Linköping University, Linköping, Sweden

Die hohe Flexibilität von Magnetron-Sputter-Prozessen, die durch eine Vielzahl an wählbaren Parametern möglich ist, hat zu einer großen Bandbreite in der Anwendung dieser Technologie geführt. Aufgrund von höheren Beschichtungsraten werden für Abscheidungsprozesse in der Regel Magnetfeldkonfigurationen gewählt, bei denen das äußere Magnetfeld bei größeren Abständen zum Target das dominierende ist, das Plasma sich also nahe der Targetoberfläche ausbildet. Diese Einstellung ist als unbalanced mode bekannt und führt u.a. dazu, dass Elektronen die Entladung verlassen und sich entlang der Magnetfeldlinien in Richtung Substrat bewegen können.

Im Rahmen dieser Arbeit wurden kalorimetrische Messungen an reaktiven Magnetronplasmen mit dem Ziel durchgeführt, den Einfluss von Elektronen auf den Energieeintrag an der Substratoberfläche in Abhängigkeit des Targetmaterials und des Arbeitspunktes zu charakterisieren. Das unbalanced Magnetron wurde mit Kupfer und Aluminium jeweils unter Zugabe von Sauerstoff als Reaktivgas im DC-Modus betrieben.