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SYPD: Symposium Plasma Deposition von funktionellen Schichten

SYPD 1: Optische Beschichtungsverfahren

SYPD 1.2: Hauptvortrag

Donnerstag, 15. März 2012, 10:40–11:20, V57.03

Fortschritte in den optischen Dünnschichttechnologien — •Norbert Kaiser — Fraunhofer IOF, Jena

Das Pilotprojekt PluTO schaffte durch die Zusammenführung von essentiellen Grundlagen aus der Plasmaphysik und der Modellbildung zu Schichtwachstumsprozessen enorme Synergieeffekte, die bereits in den ersten beiden Projektjahren zu folgenden innovativen Ansatzpunkten und essentiellen Ergebnissen geführt haben: **Die Emissionscharakteristiken von Ionenquellen für Sputterprozesse und ionengestützte Verfahren konnten parameterabhängig in ihrer räumlichen Verteilung aufgeklärt werden **Plasmasimulationen ermöglichten erstmals die theoretische Reproduktion der Ionen- und Neutralteilchen-Energieverteilung solcher Quellen. **In der Beschichtungstechnik bisher nicht etablierte Verfahren zum Plasmamonitoring bestanden Praxistests in industrienahen Anwendungsumgebungen und weisen auf ein hohes Potenzial für die weitere Stabilisierung von Beschichtungsprozessen hin. **Die neu entwickelte Multipol-Resonanzsonde ermöglicht erstmals das Plasmamonitoring während der laufenden Beschichtung, und bietet so völlig neue Ansätze für die Regelung von plasmabasierten Beschichtungsprozessen. **Die Kombination von Modellierung und Prozessanalytik hat einen Schub für die weitere Optimierung optischer Schichten durch gezielt angepasste Prozessführung generiert. **Für APS- und IBS-Prozesse konnten die zentralen Prozessparameter sowie die am Prozess beteiligten Spezies im Detail analysiert werden.