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SYPD: Symposium Plasma Deposition von funktionellen Schichten

SYPD 1: Optische Beschichtungsverfahren

SYPD 1.3: Hauptvortrag

Donnerstag, 15. März 2012, 11:20–11:50, V57.03

Entwicklung neuer optischer Funktionsschichten durch hochionisierte Sputterprozesse — •Michael Vergöhl, Ralf Bandorf, Stefan Bruns, Volker Sittinger, Bernd Szyszka und Oliver Werner — Fraunhofer Institut für Schicht- und Oberflächentechnik, Braunschweig

Magnetron-Sputterprozesse werden heute für die industrielle Herstellung vieler optischer Beschichtungen eingesetzt. Im Gegensatz zu herkömmlichen Sputterverfahren können in hochionisierten HiPIMS Prozessen (High Power Impulse Magnetron Sputtering) Ionisierungsgrade von über 100% auch für die jeweiligen Ionen des Sputtermaterials erreicht werden. Daraus ergeben sich eine Vielzahl von neuen Möglichkeiten, Schichtfunktionen zu verbessern bzw. neue Eigenschaften zu realisieren. Beispiele sind das Rutil-Titandioxid oder temper- sowie umformbare ITO-Schichten. Der Prozessführung kommt gerade für die Abscheidung isolierender Schichten wie Oxide oder Nitride eine besondere Rolle zu, da mit der Pulsleistung auch die Tendenz zu Bogenentladungen zunimmt. Überlagerte Sputterprozesse steigern die Stabilität des Beschichtungsprozesses erheblich. Im Rahmen des Vortrages wird eine Übersicht über optische und funktionelle Schichteigenschaften verschiedener Materialien gegeben.