SYPD 2: Plasmatechnik und Anwendungen
Donnerstag, 15. März 2012, 14:00–16:20, V57.03
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14:00 |
SYPD 2.1 |
Hauptvortrag:
Charakterisierung von Plasmaprozessen zur ionengestützten Abscheidung (PIAD) von optischen Schichten — •Jens Harhausen, Ralf Peter Brinkmann, Rüdiger Foest, Andreas Ohl, Benjamin Schröder und Hartmut Steffen
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14:30 |
SYPD 2.2 |
Hauptvortrag:
Prozessüberwachung und Kontrolle mit der Multipol-Resonanz-Sonde — •Ralf Peter Brinkmann, Martin Lapke, Jens Oberrath, Christian Schulz, Robert Storch, Tim Styrnoll, Peter Awakowicz, Thomas Mussenbrock, Thomas Musch, Ilona Rolfes und Christian Zietz
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15:00 |
SYPD 2.3 |
Hauptvortrag:
Gepulste Hochleistungsplasmen zur Synthese nanostrukturierter Funktionsschichten (SFB TR 87) — •Peter Awakowicz
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15:30 |
SYPD 2.4 |
Hauptvortrag:
Phase stability of TiAlNO (SFB TR 87) — •Jochen Schneider
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16:00 |
SYPD 2.5 |
Barrierebeschichtung von PET mit mikrowellenangeregten Niederdruckplasmen mit Substratbias — •Simon Steves, Michael Deilmann, Nikita Bibinov und Peter Awakowicz
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