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K: Fachverband Kurzzeitphysik

K 3: Licht- und Strahlungsquellen, EUV-Quellen

K 3.5: Vortrag

Montag, 25. Februar 2013, 17:45–18:00, HS 4

Skalierung der Brillanz von entladungsbasierten EUV-Quellen — •Jochen Vieker und Klaus Bergmann — Fraunhofer Institut für Lasertechnik, Steinbachstraße 15, 52074 Aachen, Deutschland

Gasentladungsquellen haben sich im kommerziellen Einsatz für die Forschung im Technologiezweig der EUV-Lithographie bewährt. Weiterhin bietet sich dieser Quellentyp durch seine Flexibilität als Basis für die Wasserfenstermikroskopie und -reflektometrie sowie die Interferenzlithographie an. Neben diesen in F&E eingesetzten Quellen zeichnet sich ein Bedarf an Quellen für die an die Chipproduktion gekoppelte Qualifikation optischer Komponenten ab. Herausfordernd ist hierbei die Maskeninspektion durch "Aerial Imaging Microscopy" (AIMS) mit hohen Ansprüchen an Standzeit und Brillanz. Als geeigneter Ausgangspunkt für Hochbrillanz- und Wasserfensterquellen hat sich ein Quellenkonzept auf Basis einer Pseudofunkenentladung erwiesen. Es sollen grundlegende Untersuchungen zu Mechanismen vorgestellt werden, welche die Brillianz und Konversationseffizienz bei der EUV-Erzeugung beeinflussen.