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Mon, 14:00–15:30 |
HS 4 |
K 1: Optische Methoden und Verfahren |
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Mon, 15:30–15:45 |
HS 4 |
K 2: Pulsed Power Technik |
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Mon, 16:30–18:15 |
HS 4 |
K 3: Licht- und Strahlungsquellen, EUV-Quellen |
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Tue, 11:15–12:45 |
HS 4 |
K 4: Lasersysteme und -komponenten |
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![](/static/ip/plus.gif) |
Tue, 14:00–16:00 |
HS 4 |
K 5: Laserstrahlwechselwirkung und Laseranwendungen |
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![](/static/ip/plus.gif) |
Tue, 16:30–18:30 |
Poster EG |
K 6: Poster |
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Thu, 11:15–12:30 |
HS 4 |
K 7: Laseranwendungen und Lasermaterialbearbeitung I |
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Thu, 14:00–16:00 |
HS 4 |
K 8: Laseranwendungen und Lasermaterialbearbeitung II |
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![](/static/ip/plus.gif) |
Thu, 16:30–17:15 |
HS 4 |
K 9: Laseranwendungen und Lasermaterialbearbeitung III |
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