Jena 2013 – wissenschaftliches Programm

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P: Fachverband Plasmaphysik

P 14: Poster: Komplexe und Staubige Plasmen

P 14.12: Poster

Donnerstag, 28. Februar 2013, 14:00–16:00, Poster EG

Untersuchung von Nanopartikeln bei Schichtabscheidungsprozessen — •Torben Schlebrowski, Hendrik Bahre, Marc Böke und Jörg Winter — Institut für Experimentalphysik II, Ruhr Universität Bochum, Deutschland

Im Rahmen von Schichtabscheidungen aus reaktiven Plasmen, wie zum Beispiel bei der Barrierebeschichtung von Kunststofffilmen, enstehen häufig Nanopartikel welche sowohl die Plasmaparameter ändern als auch in die Schichten eingebaut werden können. Gegenstand unserer Untersuchungen sind Barriereschichten, in die zum einem gezielt Nanopartikel eingebaut werden als auch der Vergleich mit einer Schicht, in der sich keine Partikel befinden. Zur untersuchung dieser Partikel wurde ein 3D Scanning System bestehend aus einem Galvanoscanner und einer schnellen, hoch-sensitiven PCO-Kamera konstruiert und qualifiziert, mit dem die Staubbildung als auch die Bewegung der Partikel in reaktiven Plasmen beobachtet werden können.

Die Vorteile dieses Systems sind seine hohe Zeit- und Ortsauflösung sowie eine hervorragende Sensitivität für die Detektion sehr kleiner Partikel (< 50 nm). Zur überprüfung der Sensitivität in ersten Untersuchungen wurde durch eine größenmessung der in der Schicht enthaltenen Partikel mittels eines SEMs die minimal aufspürbare Parikelgröße ermittelt. Ausserdem wurde der Existenzbereich der Partikelbildung (räumliche Verteilung/Plasmaparameter) in einer Hochleistungs-ICP-Entladung untersucht.

Dieses Projekt wird im Rahmen des SFB-TR87 von der DFG gefördert.