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P: Fachverband Plasmaphysik

P 23: Theorie und Modellierung von Niedertemperaturplasmen II

P 23.5: Vortrag

Freitag, 1. März 2013, 10:45–11:00, HS 3

Theoretische Basis von Plasma- und Schichtmodellierung in optischen Beschichtungsprozessen — •Benjamin Schröder¹, Ralf Peter Brinkmann¹, Marcus Turowski², Thomas Frauenheim³, Thomas Köhler³, Marc Landmann⁴, Jens Harhausen⁵, Rüdiger Foest⁵, Andreas Ohl⁵, Norbert Kaiser⁶, Olaf Stenzel⁶ und Steffen Wilbrandt⁶ — ¹Lehrstuhl für Theoretische Elektrotechnik, Ruhr-Universität Bochum — ²LZH, Hannover — ³BCCMS, Universität Bremen — ⁴Nachwuchsforschergruppe "Computational Materials Science", Universität Paderborn — ⁵INP Greifswald e.V. — ⁶IOF, Jena

Die Modellierung von optischen Beschichtungsprozessen mit den Techniken Plasma Ion Assisted Deposition (PIAD) und Ion Beam Sputtering (IBS) wurde im Rahmen des BMBF-geförderten Projekts "PluTO" untersucht. In diesen Prozessen sind nicht nur dissoziierte Beschichtungsdämpfe und Prozessgase von Bedeutung, sondern auch Plasmen, die entweder zwangsläufig erzeugt werden (IBS-Prozesse) oder gezielt zur Schichtverbesserung genutzt werden (PIAD-Prozesse). Es soll dargestellt werden, welche Möglichkeiten und Techniken zur Modellierung des Plasmas und Schichtwachstums in optischen Beschichtungsprozessen in Entwicklung und Einsatz sind, wobei insbesondere auf die Plasma-Modellierung von PIAD-Prozessen eingegangen wird.