P 4: Plasmatechnologie I
Montag, 25. Februar 2013, 16:30–18:45, HS 2
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16:30 |
P 4.1 |
Hauptvortrag:
An efficient procedure to identify and quantify new molecules for insulating gas mixtures — •Christian M. Franck, Dominik A. Dahl, and Mohamed Rabie
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17:00 |
P 4.2 |
Improving the Electronic Transport and Structural Properties of Magnetron Sputtered ZnO:Al and ZnMgO:Al Films by Reducing the Particle Energy — •André Bikowski and Klaus Ellmer
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17:15 |
P 4.3 |
Untersuchung der Veränderung eines Strukturproteins der Haut durch Plasmabehandlung — •Sabrina Baldus, Meike Mischo, Martina Havenith und Peter Awakowicz
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17:30 |
P 4.4 |
The effect of the driving frequencies on the Electrical Asymmetry Effect in dual-frequency capacitive radio frequency plasmas — •Julian Schulze, Ihor Korolov, Uwe Carnetzki, and Zoltan Donko
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17:45 |
P 4.5 |
Scaling parameter in plasma-enhanced CVD of SiO2 thin films in atmospheric pressure dielectric barrier discharges — •S. Welzel, S.A. Starostin, H. de Vries, M.C.M. van de Sanden, and R. Engeln
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18:00 |
P 4.6 |
Kombinationssensor zur Charakterisierung von Beschichtungsplasmen — •Klaus Ellmer, Thomas Welzel, Karsten Harbauer und Max Kellermeier
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18:15 |
P 4.7 |
Charakterisierung eines großflächigen, kapazitiv gekoppelten Mehrfrequenzplasmas (MFCCP) für keramische PVD-Beschichtungen — •Stefan Bienholz, Nikita Bibinov, Dario Grochla, Denis Eremin, Alfred Ludwig, Thomas Mussenbrock und Peter Awakowicz
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18:30 |
P 4.8 |
Massenspektrometrische Untersuchungen an Aluminium-Triisopropoxid-haltigen Plasmen — •Maik Fröhlich, Stefan Niemietz und Holger Kersten
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